2025 차세대 리소그래피 + 패터닝 학술대회
페이지 정보
본문
8/11-12, 2025
Suwon Convention Center, Suwon-si, Gyeonggi-do, Korea / Online/Offline Hybrid
Program at a Glance
| 1st Day | Aug. 11, 2025 (Mon.)
08:00-09:00
Registration
09:00-10:35
PL-I Plenary Session 『405-408』
Chair: 이상설 (포스텍)
Chair: 이상설 (포스텍)
- Opening Remarks 프로그램위원장 개회사
-
Plenary Talk 1
Understanding, characterizing, and mitigating stochastics and phase in the realm of EUV masks
| Patrick Naulleau (EUV Tech Inc., USA) -
Plenary Talk 2
Light Meets AI: Driving Semiconductor Metrology in an Era of Complexity
| 이명준 (삼성전자)
10:35-10:45
Break
10:45-12:15
- EU-I-1 초청 반근도 (SK hynix)
- EU-I-2 초청 김형근 (한국전자기술연구원)
- EU-I-3 초청김지호 (포스텍)
- MI-I-1 초청 Hiebert (KLA)
- MI-I-2 초청 유영국 (Park Systems)
- MI-I-3 초청 전세영 (서울대)
- ET-I-1 초청 임연호 (전북대)
- A Review of Recent Advances in Dry Etching Technologies at SPIE Litho 2025
12:15-13:35
Lunch / Break
13:35-15:05
- EU-II-1 초청 이성규 (삼성전자)
- EU-II-2 초청 박의상 (SK hynix)
- EU-II-3 초청 김상진(아주대)
- MI-II-1 초청 Anagnostis Tsiatmas (ASML)
- MI-II-2 초청 박경덕 (포스텍)
- MI-II-3 초청 김도년 (서울대)
- ET-II-1 초청 유신재 (충남대)
- ET-II-2 초청 신태호 (ICD)
- ET-II-3 초청 임연호 (전북대)
15:05-15:20
Break
15:20-17:00
PL-II Plenary Session II 『405-408』
Chair: 김욱래 (삼성전자)
Chair: 김욱래 (삼성전자)
-
Welcome Remarks
조직위원장 환영사
한국광학회 회장 축사 -
Plenary Talk 3
2D Materials Etch Technology for Next Generation Semiconductor Fabrication
| 염근영 (성균관대) -
Plenary Talk 4
Empowering Semiconductor Scaling through EUV and Holistic Lithography
| Seiji Nagahara (ASML-J)
17:00-17:15
Break
17:15-18:25
Panel Discussion 『405-408』
Chair: 고차원(연세대)
Chair: 고차원(연세대)
- 주제
- “3D Era.에서의 Litho, Etch, MI 역할과 전망”
- 패널: 이명준(삼성전자), 양승훈(삼성전자), 김용진(SK hynix), 신태호(ICD), Ethan C. B. Lee (삼성SDI), 이병호(Hitachi High-Tech)
18:25-20:25
-
Banquet _ 등록인원
『마키노차야 광교점』
-
Banquet _ VIP
『403』
Full Day
| 2nd Day | Aug. 12, 2025 (Tue.)
08:00-09:00
Registration
09:00-10:35
PL-III Plenary Session III 『405-407』
Chair: 고차원 (연세대)
Chair: 고차원 (연세대)
- Appreciation Remarks 프로그램위원장 감사의 말씀
-
Plenary Talk 5
Evolution of Inverse Lithography Technology: Past, Present,and Future Perspectives on
Overcoming Lithography Challenges
| 양승훈 (삼성전자) -
Plenary Talk 6
Comprehensive Overview of Lithography Patterning Materials and Innovation toward
Next Generation Device Architecture
| Ethan C. B. Lee (삼성SDI)
10:35-10:45
Break
10:45-12:10
NGL-J Session 『405-407』
Chair: 이병호(Hitachi High-Tech)
Chair: 이병호(Hitachi High-Tech)
- NGL-J-1 초청 Yoshio Suzaki (Canon)
- NGL-J-2 초청 Wataru Yamane (Hitachi High-Tech)
- NGL-J-3 초청 Yohei Ikebe (Hoya)
12:10-13:15
Lunch/Break
13:15-14:15
Poster Session
14:15-15:45
- PM-I-1 초청 최정희 (삼성전자)
- PM-I-2 초청 허수미 (전남대)
- PM-I-3 기원철 (전남대)
- PM-I-4 홍승재 (고려대)
- CL-I-1 초청 김보경 (SK Hynix)
- CL-I-2 초청 서정훈 (ASML)
- CL-I-3 김서현 (KAIST)
- AL-I-1 초청 김석 (포스텍)
- AL-I-2 초청 정연식 (KAIST)
- AL-I-3 초청 금호연 (한국생산기술연구원)
- AL-I-4 초청 최문기 (UNIST)
15:45-16:00
Break
16:00-17:30
- PM-II-1 초청 남창용 (Brookhaven Nat.Lab)
- PM-II-2 초청 유영민 (연세대)
- PM-II-3 초청 김명웅 (인하대)
- PM-II-4 이서현 (서울시립대)
- CL-II-1 초청 김은성 (삼성전자)
- CL-II-2 이진호 (서울대)
- CL-II-3 채유진 (한양대)
- AL-II-1 초청 박성준 (서울대)
- AL-II-2 초청 노유신 (건국대)
- AL-II-3 초청 서준민 (서울대)
17:30-17:45
Break
17:45-18:00
CL Closing Session 『405/406』
Chair: 김성환(한양대)
Chair: 김성환(한양대)
- Best Student Paper Awards Ceremony ASML, 논문상 심사위원장
- Closing Remarks 조직위원장
Full Day
- 다음글2024 차세대 리소그래피 + 패터닝 학술대회 25.06.05