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양경모 대표이사

하이케이엠

SEM for MI Technology

반도체 공정에서의 계측/검사(MI) 공정은 반도체의 주요 8대 모든 공정에서의 결과 측정 및 변경점 감시, 불량 검출 등의 역할을 하고 있다. 최근 반도체 공정의 급격한 진보로 MI의 역할은 더욱 중요 해지며 8+1(MI)공정, 또는 제9공정으로도 불리어지고 있다. 본 강의 에서는 전반적인 MI 공정에 이해와 더불어 사용자 관점에서의 MI의 Application변화/확산에 대해서 알아 보고자 한다.

1.반도체 에서의 MI 공정이란

2.CD-SEM의 이해

3.In Line Fab에서의 Inspection 설비의 활용과 이해

- 1987 ~ 1999
       삼성전자 반도체사업부
                               
반도체 공정, 수율 향상활동, CD-SEM의 교정 System구축(특허다수)

- 1999 ~ 2004
      AMAT/AMK (Applied Materials Korea)
                               
신규 설비의 Penetration전략수립 및 활동

- 2004 ~ 2023
      HHTK(Hitachi High-tech Korea), Vice President 역임

                                CD-SEM설계, Application, Marketing (논문/특허다수)

                                Marketing 대응 고객 : Intel, tsmc, Micron, Texas Instruments, AMD, Spension.

                                GlobalFoundries, Sony, Panasonic, TEL, JHICC, YMTC, SMIC, Nanya, UMC,

                                Samsung, SK hynix, IMEC, Sematech등

                                CD-SEM설계, Application, Marketing (논문/특허다수)

- 2023 ~
Current  HiKM

                                In Line SEM Solution제공

리소그래피 분과

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대표 이메일 : 2024ngl.contact@gmail.com

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