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Session 일정 강의과목 및 연사
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6월 26일 (수) 14:00~17:00

Working Mechanisms of Photoresists and Technology Trend

이진균 교수 | 인하대학교 고분자공학과

6월 26일 (수) 14:00~17:00

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17
6월 27일 (목) 09:00~12:00

Patterning Technology for Memory Devices

조창현 박사 | 전임, SK하이닉스/삼성전자 반도체연구소 임원

6월 27일 (목) 09:00~12:00

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18
6월 27일 (목) 14:00~17:00

Dry Etch Technology for Patterning

김용진 박사 | SK hynix

6월 27일 (목) 14:00~17:00

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19
6월 28일 (금) 09:00~12:00

Optics for MI Engineers

이준호 교수 | 공주대학교 광공학과

6월 28일 (금) 09:00~12:00

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20
6월 28일 (금) 14:00~17:00

SEM for MI Technology

양경모 대표이사 | 하이케이엠

6월 28일 (금) 14:00~17:00

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21
6월 26일 (월) 09:00~12:00

Introduction to Optical Lithography

서정훈 박사 | ASML US

6월 26일 (월) 09:00~12:00

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22
6월 26일 (월) 14:00~17:00

Introduction to Photomask Technology

김병국 대표 | ESOL, Inc.

6월 26일 (월) 14:00~17:00

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23
6월 27일 (화) 09:00~12:00

Introduction to Semiconductor Device Technology and Fabrication Process

최리노 교수 | 인하대학교 신소재공학과

6월 27일 (화) 09:00~12:00

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24
6월 27일 (화) 14:00~17:00

Patterning Technology for Memory Devices 메모리 반도체 Shrink 대응 패터닝 전략

조창현 박사 | 전임, SK하이닉스/삼성전자 반도체연구소 임원

6월 27일 (화) 14:00~17:00

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25
6월 28일 (수) 09:00~12:00

Working Mechanisms of Photoresists and Technology Trend

이진균 교수 | 인하대학교 고분자공학과

6월 28일 (수) 09:00~12:00

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26
6월 28일 (수) 14:00~17:00

Lithographic Process and Its Materials

우상균 연구위원 | SEMES

6월 28일 (수) 14:00~17:00

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27
6월 29일 (목) 09:00~12:00

EUV Lithography 극자외선 노광기술

안진호 교수 | 한양대학교 신소재공학부

6월 29일 (목) 09:00~12:00

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28
6월 29일 (목) 14:00~17:00

Computational Lithography with Machine Learning Techniques (권용휘 박사)

권용휘 박사 | (KAIST 전기및전자공학부 졸)

6월 29일 (목) 14:00~17:00

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29
6월 30일 (금) 09:00~12:00

Optics for MI Engineers

이준호 교수 | 공주대학교 광공학과

6월 30일 (금) 09:00~12:00

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