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Session 1.
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7월 6일 (월) 09:00~12:00
Introduction to Optical Lithography and Optical Systems
서정훈 박사 | ASML US
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Session 2.
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7월 6일 (월) 14:00~17:00
Introduction to EUV Lithography: Fundamentals and Recent Trends
안진호 교수 | 한양대학교
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Session 3.
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7월 7일 (화) 09:00~12:00
Lithographic Process and Materials: Fundamentals and Applications
우상균 연구위원 | 전) SEMES
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Session 4.
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7월 7일 (화) 14:00~17:00
Working Mechanisms of Photoresists and Technology Trends
이진균 교수 | 인하대학교
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Session 5.
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7월 8일 (수) 09:00~12:00
Introduction to Photomask Technology and Trends
김병국 대표 | ESOL, Inc.
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Session 6.
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7월 8일 (수) 14:00~ 17:00
SPIE ALP 2026 Review
Overview and Key Advances in Lithography Technologies
(EUV/Optical Lithography, Photoresist, EUV Mask, Computational Litho, Metrology Inspection etc.)
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Session 7.
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SPIE 2026 Next-Generation Semiconductor Patterning Technology Trends and Implications
김상진 교수 | 아주대학교
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Session 8.
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SPIE Advanced Lithography + Patterning Technical Review
이상설 교수 | POSTEC
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Session 9.
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6월 27일 (금) 14:00~17:00
Working Mechanisms of Photoresists and Technology Trend _ 온·오프라인 강의
이진균 교수 | 인하대학교 고분자공학과
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