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Session 1
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서정훈 박사 | ASML US
Introduction to Optical Lithography
6월 24일 (월) 09:00~12:00
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Session 2
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김병국 대표 | ESOL, Inc.
Introduction to Photomask Technology
6월 24일 (월) 14:00~17:00
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Session 3
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최리노 교수 | 인하대학교 신소재공학과
Introduction to Semiconductor Device Technology and Fabrication Process
6월 25일 (화) 09:00~12:00
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Session 4
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안진호 교수 | 한양대학교 신소재공학부
EUV Lithography
6월 25일 (화) 14:00~17:00
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Session 5
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우상균 연구위원 | 전 SEMES
Lithographic Process and Its Materials
6월 26일 (수) 09:00~12:00
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Session 6
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이진균 교수 | 인하대학교 고분자공학과
Working Mechanisms of Photoresists and Technology Trend
6월 26일 (수) 14:00~17:00
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Session 7
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조창현 박사 | 전 SK hynix/삼성전자 임원
Patterning Technology for Memory Devices
6월 27일 (목) 09:00~12:00
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Session 8
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김용진 박사 | SK hynix
Dry Etch Technology for Patterning
6월 27일 (목) 14:00~17:00
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Session 9
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이준호 교수 | 공주대학교 광공학과
Optics for MI Engineers
6월 28일 (금) 09:00~12:00
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Session 10
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양경모 대표이사 | 하이케이엠
SEM for MI Technology
6월 28일 (금) 14:00~17:00
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