올해 단기강좌는 6월 24일(월)부터 6월 28일(금)까지 부산 센텀프리미어 호텔에서 대면 및 비대면 하이브리드 형식으로 개최됩니다. 기존 수강생분들과 학계 및 산업계의 의견을 수렴하여 "Dry Etch Technology for Patterning"과 "SEM for MI Technology" 강좌가 추가 개설되었습니다.

첫째 날에는 리소그래피 기술의 기초와 핵심을 파악하실 수 있도록 "Introduction to Optical Lithography"와 "Introduction to Photomask Technology" 강좌를 준비했으며, 둘째 날에는 반도체 소자의 역사와 제조 공정에 대한 유익한 정보를 담은 "Introduction to Semiconductor Device Technology and Fabrication Process"와 최첨단 리소그래피 기술로 큰 주목을 받고 있는 "EUV Lithography" 강좌가 진행됩니다. 셋째 날은 포토레지스트를 포함한 다양한 패터닝 소재와 관련 공정에 대해 심도 있게 소개할 "Lithographic Process and Its Materials"와 "Working Mechanisms of Photoresists and Technology Trend" 강좌가 개최될 예정이며, 넷째 날에는 메모리 반도체를 중심으로 미세화 대응을 위한 패터닝 전략에 대해 상세히 소개할 "Patterning Technology for Memory Devices"와 미세화 및 3D 공정의 도입에 따라 그 중요성이 증가하고 있는 "Dry Etch Technology for Patterning" 강좌를 수강하실 수 있습니다. 마지막 다섯째 날에는 결함 최소화 및 수율 향상 관점에서 가장 중요한 핵심 공정으로 부각되고 있는 MI 기술에 대해 체계적으로 살펴보실 수 있도록 "Optics for MI Engineers"와 "SEM for MI Technology" 강좌를 마련했습니다.

새롭게 보강된 저희 "차세대 리소그래피 + 패터닝" 단기 강좌가 반도체 기술에 대한 많은 분들의 궁금증을 해소하고 K-반도체 산업의 발전에 기여하여 우리나라가 종합 반도체 강국으로 도약하는데 일조 할 수 있기를 기대합니다. 각 분야별 국내외 최고의 전문가이신 연사 분들 그리고 열정적인 수강생 여러분들과 함께 반도체 관련 교육 프로그램의 새로운 전통을 계속해서 만들어 나가겠습니다. 올해도 관련 기업인, 연구자, 학생, 그리고 관심있는 일반인 여러분의 적극적인 참여를 요청 드립니다.

감사합니다.

2024 차세대 리소그래피 + 패터닝 단기교육강좌 조직위원장 박종락, 안진호
프로그램 위원장 이병호, 이준호