올해 차세대 리소그래피 단기교육강좌는 2026년 7월 6일(수)부터 7월 8일(금)까지 3일간, 해운대 블루스토리 호텔에서 대면 및 비대면 하이브리드 형식으로 개최됩니다.

본 교육강좌는 빠르게 진화하는 반도체 리소그래피 기술을 단기간에 가장 효과적으로 이해할 수 있도록 설계된 집중 교육 프로그램입니다. 기존 수강생과 연사분들의 의견을 적극 반영하여, 최신 기술 트렌드를 깊이 있게 다루는 심화 내용과 입문자·초보자에게 반드시 필요한 핵심 기초 개념을 균형 있게 구성하였습니다. 또한 강좌 간 난이도와 연계성을 체계적으로 정비하여, 처음 접하는 분부터 실무 전문가까지 모두가 높은 학습 효과를 체감할 수 있도록 프로그램을 새롭게 고도화하였습니다.

첫째 날에는 Optical Lithography와 EUV Lithography의 기초 및 최신 동향을 중심으로, 리소그래피 기술의 전체 흐름을 빠르게 조망하고 핵심 개념을 확실히 정립할 수 있는 입문 강의가 진행됩니다. Optical System의 기본 원리부터 EUV 기술의 최신 발전까지 폭넓게 다루며, 이후 심화 학습을 위한 탄탄한 기반을 제공합니다.

둘째 날에는 Lithographic Process 및 Materials, Photoresist 기술을 중심으로 실제 반도체 패터닝 공정의 핵심 메커니즘을 심층적으로 분석합니다. 공정과 소재의 상호작용, 최신 기술 동향, 산업 적용 사례까지 폭넓게 다루어, 실무에 바로 적용 가능한 인사이트를 제공합니다.

셋째 날에는 Photomask 기술과 SPIE ALP 2026 주요 기술 리뷰를 통해 글로벌 리소그래피 기술의 현재와 미래를 한눈에 조망합니다. EUV/Optical Lithography, Photoresist, EUV Mask, Computational Lithography, Metrology 및 Inspection 등 핵심 분야의 최신 이슈와 발전 방향을 정리함으로써, 참가자 여러분께 차별화된 기술 통찰을 제공할 예정입니다.

이번 교육강좌에는 ASML을 비롯하여 한양대학교, 인하대학교, ESOL, 아주대학교, 포항공과대학교 등 국내외 유수 기관의 최고 전문가들이 연사로 참여하여, 이론과 실무를 아우르는 수준 높은 강의를 제공합니다.

본 교육과정은 리소그래피 기술에 대한 이해를 한 단계 끌어올리고, 빠르게 변화하는 반도체 산업 환경 속에서 경쟁력을 확보할 수 있는 실질적인 학습 기회가 될 것입니다.

반도체 리소그래피 분야의 기업인, 연구자, 학생은 물론 해당 분야에 관심 있는 모든 분들의 적극적인 참여를 바랍니다.
지금, 리소그래피 기술의 핵심을 가장 빠르고 정확하게 이해할 수 있는 기회를 놓치지 마시기 바랍니다.

감사합니다.

2026 차세대 리소그래피 + 패터닝 단기교육강좌 조직위원장 이준호, 이병호
프로그램 위원장 이상설, 차병철