차세대 리소그래피

| 2nd Day | Aug. 13, 2024 (Tue.)

LO-II

Layout Optimization and Computational Lithography-II

405/406
15:20~15:50 KST
좌장: 양현조 (ASML)

LO-II-1

Computational Lithography of Metal-Oxo-Resists

*Ulrich Welling (Synopsys)

15:20~15:50

리소그래피 분과

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