Program at a Glance

| 1st Day | Aug. 11, 2025 (Mon.)
08:00-09:00
Registration
09:00-10:35
PL-I Plenary Session 『405-408』
Chair: 이상설 (포스텍)
  • Opening Remarks 프로그램위원장 개회사
  • Plenary Talk 1 Understanding, characterizing, and mitigating stochastics and phase in the realm of EUV masks
    | Patrick Naulleau (EUV Tech Inc., USA)
  • Plenary Talk 2 Light Meets AI: Driving Semiconductor Metrology in an Era of Complexity
    | 이명준 (삼성전자)
10:35-10:45
Break
10:45-12:15
EU/OP-I 『401/402』
EUV Lithography I
Chair: 김상진(아주대), 이상설(포스텍)
  • EU-I-1 초청 반근도 (SK hynix)
  • EU-I-2 초청 김형근 (한국전자기술연구원)
  • EU-I-3 초청김지호 (포스텍)
MI-I 『405/406』
Advanced Metrology and
Inspection I
Chair: 김욱래(삼성전자)
  • MI-I-1 초청 Hiebert (KLA)
  • MI-I-2 초청 유영국 (Park Systems)
  • MI-I-3 초청 전세영 (서울대)
ET-I 『404』
Advanced Etch Technology for
Nanopatterning I
Chair: 김용진(SK hynix)
  • ET-I-1 초청 임연호 (전북대)
  •       A Review of Recent Advances in Dry Etching       Technologies at SPIE Litho 2025
12:15-13:35
Lunch / Break
13:35-15:05
EU/OP-II 『401/402』
EUV Lithography II
Chair: 서환석(연세대), 이상설(포스텍)
  • EU-II-1 초청 이성규 (삼성전자)
  • EU-II-2 초청 박의상 (SK hynix)
  • EU-II-3 초청 김상진(아주대)
MI-II 『405/406』
Advanced Metrology and
Inspection II
Chair: 조태영(삼성전자)
  • MI-II-1 초청 Anagnostis Tsiatmas (ASML)
  • MI-II-2 초청 박경덕 (포스텍)
  • MI-II-3 초청 김도년 (서울대)
ET-II 『404』
Advanced Etch Technology for
Nanopatterning II
Chair: 민경진(명지대)
  • ET-II-1 초청 유신재 (충남대)
  • ET-II-2 초청 신태호 (ICD)
  • ET-II-3 초청 임연호 (전북대)
15:05-15:20
Break
15:20-17:00
PL-II Plenary Session II 『405-408』
Chair: 김욱래 (삼성전자)
  • Welcome Remarks 조직위원장 환영사
    한국광학회 회장 축사
  • Plenary Talk 3 2D Materials Etch Technology for Next Generation Semiconductor Fabrication
    | 염근영 (성균관대)
  • Plenary Talk 4 Empowering Semiconductor Scaling through EUV and Holistic Lithography
    | Seiji Nagahara (ASML-J)
17:00-17:15
Break
17:15-18:25
Panel Discussion 『405-408』
Chair: 고차원(연세대)
  • 주제
  • “3D Era.에서의 Litho, Etch, MI 역할과 전망”
  • 패널: 이명준(삼성전자), 양승훈(삼성전자), 김용진(SK hynix), 신태호(ICD), Ethan C. B. Lee (삼성SDI), 이병호(Hitachi High-Tech)
18:25-20:25
  • Banquet _ 등록인원
    『마키노차야 광교점』
  • Banquet _ VIP
    『403』
Full Day
Poster Posting 『4th Floor Lobby』
| 2nd Day | Aug. 12, 2025 (Tue.)
08:00-09:00
Registration
09:00-10:35
PL-III Plenary Session III 『405-407』
Chair: 고차원 (연세대)
  • Appreciation Remarks 프로그램위원장 감사의 말씀
  • Plenary Talk 5 Evolution of Inverse Lithography Technology: Past, Present,and Future Perspectives on
    Overcoming Lithography Challenges
    | 양승훈 (삼성전자)
  • Plenary Talk 6 Comprehensive Overview of Lithography Patterning Materials and Innovation toward
    Next Generation Device Architecture
    | Ethan C. B. Lee (삼성SDI)
10:35-10:45
Break
10:45-12:10
NGL-J Session 『405-407』
Chair: 이병호(Hitachi High-Tech)
  • NGL-J-1 초청 Yoshio Suzaki (Canon)
  • NGL-J-2 초청 Wataru Yamane (Hitachi High-Tech)
  • NGL-J-3 초청 Yohei Ikebe (Hoya)
12:10-13:15
Lunch/Break
13:15-14:15
Poster Session
14:15-15:45
PM-I 『401/402』
Patterning Materials I
Chair: 고차원(연세대)
  • PM-I-1 초청 최정희 (삼성전자)
  • PM-I-2 초청 허수미 (전남대)
  • PM-I-3         기원철 (전남대)
  • PM-I-4         홍승재 (고려대)
CL-I 『405/406』
Computational Lithography I
Chair: 양승훈(삼성전자)
  • CL-I-1 초청 김보경 (SK Hynix)
  • CL-I-2 초청 서정훈 (ASML)
  • CL-I-3         김서현 (KAIST)
AL-I 『404』
Alternative Lithography I
Chair: 김명기 (고려대)
  • AL-I-1 초청 김석 (포스텍)
  • AL-I-2 초청 정연식 (KAIST)
  • AL-I-3 초청 금호연 (한국생산기술연구원)
  • AL-I-4 초청 최문기 (UNIST)
15:45-16:00
Break
16:00-17:30
PM-II 『401/402』
Patterning Materials II
Chair: 허수미(전남대)
  • PM-II-1 초청 남창용 (Brookhaven Nat.Lab)
  • PM-II-2 초청 유영민 (연세대)
  • PM-II-3 초청 김명웅 (인하대)
  • PM-II-4         이서현 (서울시립대)
CL-II 『405/406』
Computational Lithography II
Chair: 양승훈(삼성전자)
  • CL-II-1 초청 김은성 (삼성전자)
  • CL-II-2         이진호 (서울대)
  • CL-II-3         채유진 (한양대)
AL-II 『404』
Alternative Lithography II
Chair: 김명기 (고려대)
  • AL-II-1 초청 박성준 (서울대)
  • AL-II-2 초청 노유신 (건국대)
  • AL-II-3 초청 서준민 (서울대)
17:30-17:45
Break
17:45-18:00
CL Closing Session 『405/406』
Chair: 김성환(한양대)
  • Best Student Paper Awards Ceremony ASML, 논문상 심사위원장
  • Closing Remarks 조직위원장
Full Day
Poster Posting 『4th Floor Lobby
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