차세대 리소그래피

Program at a Glance

| 1st Day | Aug. 12, 2024 (Mon.)

08:00-09:00

Registration

09:00-10:25

PL-I Plenary Session 『405-408』
Chair: 김용진 (SK hynix)

Opening Remarks 프로그램위원장 개회사, 이병호 (히타치하이테크)
Plenary Talk 1 배근희 (삼성전자)
Plenary Talk 2 Erik R. Hosler (FylEx and xLight)

10:25-10:45

Break

10:45-12:15

EU-I 『401/402』
EUV Lithography I
Chair: 이상설(포스텍)

EU-I-1 초청 민철기 (삼성전자)
EU-I-2 초청 이동근 (ESOL)
EU-I-3 초청 김동언 (포스텍)

MI-I 『405/406』
Advanced Metrology and
Inspection I
Chair: 이명준 (삼성전자)

MI-I-1 초청 한상현 (NOVA)
MI-I-2 초청 정재훈 (삼성전자)
MI-I-3 초청 장무석 (KAIST)

12:15-13:30

Lunch / Break

13:30-15:00

EU-II 『401/402』
EUV Lithography II
Chair: 김병국 (ESOL)

EU-II-1 초청 김황범 (SK hynix)
EU-II-2 초청 승병훈 (S&S TECH)
EU-II-3 초청 김형준 (한국세라믹기술원, KICET)

MI-II 『405/406』
Advanced Metrology and
Inspection II
Chair: 김욱래 (삼성전자)

MI-II-1 초청 Sean Park (KLA)
MI-II-2 초청 장혜진 (서울대)
MI-II-3 초청 Eugen Foca (Zeiss)

ET-I 『403』
Advanced Etch Technology for
Nanopatterning I
Chair: 민경진 (명지대)

ET-I-1 초청 이재원 (SK hynix)
ET-I-2 초청 임연호 (전북대)
ET-I-3 초청 정진욱 (한양대)

15:00-15:20

Break

15:20-16:50

PL-II Plenary Session II 『405-408』
Chair: 이명준 (삼성전자)

Welcome Remarks 조직위원장 환영사, 안진호 (한양대)
한국광학회 (차기)회장 축사, 이상민 (KAIST)
Plenary Talk 3 양유신 (삼성전자)
Plenary Talk 4 서재욱 (SK hynix)

16:50-17:10

Break

17:10-18:30

Panel Discussion 『405-408』
Chair: 이상설 (포스텍)

주제
“Scale down (EUV HNA Challenges) + 3D Architecture”
패널: 고차원(연세대), 김재현(SK hynix), 양유신(삼성전자), 배근희(삼성전자), 서재욱(SK hynix), 최리노(인하대)

18:30-20:30

Banquet 『마키노차야 광교점』
진행: 남정림 (한양대)

Full Day

Poster Posting 『4th Floor Lobby』

| 2nd Day | Aug. 13, 2024 (Tue.)

08:00-09:00

Registration

09:00-10:30

PS Poster Session 『4th Floor Lobby』

10:30-12:00

PL-III Plenary Session III 『405-408』
Chair: 허성민 (ASML)

Appreciation Remarks 프로그램위원장 감사의 말씀, 이준호 (공주대)
Plenary Talk 5 성낙근 (ASML)
Keynote Talk 1 Simon Lee (KASASV)

12:00-13:30

Lunch / Break

13:30-15:00

PM-I『401/402』
Patterning Materials I
Chair: 허수미 (전남대)

PM-I-1 초청 정현담 (전남대)
PM-I-2 초청 서용범 (삼성전자)
PM-I-3 구예진 (인하대)
PM-I-4 윤세현 (전남대)

LO-I 『405/406』
Layout Optimization and
Computational Lithography I
Chair: 양현조 (ASML)

LO-I-1 초청 김은주 (삼성전자)
LO-I-2 초청 김성호 (SK hynix)
LO-I-3 초청 송정철 (National NanoFab)

AL-I 『403』
Alternative Lithography I
Chair: 김명기 (고려대)

AL-I-1 초청 심태섭 (아주대)
AL-I-2 초청 강문성 (서강대)
AL-I-3 초청 정현호 (GIST)

15:00-15:20

Break

15:20-16:50

PM-II 『401/402』
Patterning Materials II
Chair: 고차원 (연세대)

PM-II-1 초청 윤효재 (고려대)
PM-II-2 초청 이진균 (인하대)
PM-II-3 김현석 (전남대)

LO-II 『405/406』
Layout Optimization and
Computational Lithography II
Chair: 양현조 (ASML)

LO-II-1 초청 Ulrich Welling (Synopsys)
(Online)

AL-II 『403』
Alternative Lithography II
Chair: 김명기 (고려대)

AL-II-1 초청 노유신 (건국대)
AL-II-2 초청 한상윤 (DGIST)
AL-II-3 초청 김인기 (성균관대)

16:50-17:10

Break

17:10-17:30

CL Closing Session 『405/406』
Chair: 김성환 (한양대)

Best Student Paper Awards Ceremony 학생논문상 심사평, 김성환 (한양대)
학생논문상 시상, 정진항 (ASML)
Closing Remarks 조직위원장 폐회사, 박종락 (조선대)

Full Day

Poster Posting 『4th Floor Lobby

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